半导体硅片清洗机
关键特征

半导体硅片全自动超声波清洗机专为半导体行业设计,借超声波高频振动产生的气泡冲击力深度清洁硅片。它融合多种清洗方式,通过 PLC 控制系统实现上下料、自动清洗、自动换液、监控数据等自动化流程,搭配直观人机交互界面,操作简便。整机采用优质不锈钢材质及耐腐蚀PP材质制作,满足半导体硅片严苛清洗需求、保障生产效率与产品质量的理想选择。

型号:JTM-100504AD类型: 超声波碱洗+超声波酸洗+纯水漂洗
清洗频率:40KHZ/80KHZ功率:120KW
清洗温度:60℃槽数:10
外形尺寸:12M*2M*2.8M重量:5000KG









产品参数

参数.jpg6定制服务流程.jpg