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全自动环保型晶圆硅片超声波清洗机
JTW-90360AD 九槽全自动环保型超声波清洗机专为半导体行业晶圆、硅片精密湿法清洗而研制。配备40KHz-80KHz双频超声波系统,集成超声波旋转清洗、摆动清洗与热风烘干工艺,温度可调范围为室温至100℃。旋转与摆动复合运动强化液体扰动,结合稳定超声波空化作用,高效去除晶圆表面光刻胶残留、微颗粒、有机污染物及金属杂质,大幅减少颗粒二次附着,防止基底划伤、水痕等缺陷。机器采用9工位自动龙门搬运结构,外形尺寸9.5M×1.8M×2.7M,总功率180KW,净重5000kg。配备闭式化学过滤及集中废气废液处理系统,实现环保生产并降低化学药剂消耗。采用高等级洁净防护设计,广泛应用于硅晶圆、碳化硅芯片、蓝宝石衬底等半导体材料大批量清洗,满足刻蚀、镀膜、封装等前道工艺所要求的超高标准洁净度。
产品详情
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| 所属行业 | 半导体行业 |
| 产品名称 | 晶圆与硅片全自动环保型超声波清洗机 |
| 产品型号 | JTW-90360AD |
| 工艺配置 | 超声波旋转清洗 + 摆动运动 + 热风干燥 |
| 清洗频率 | 40KHZ-80KHZ |
| 最高清洗温度 | 常温 ~ 100℃ |
| 槽体数量 | 9 槽 |
| 外形尺寸 | 9.5M*1.8M*2.7M |
| 总功率 | 180KW |
| 净重 | 5000kg |






