半导体晶圆全自动超声波清洗系统

JTM-10720AD 十槽全自动超声波清洗系统，专为半导体晶圆清洗设计。采用40KHz超声波频率，支持从室温至100℃可调温度，以适应不同晶圆材料及污染物。凭借稳定均匀的空化作用，高效去除晶圆表面的有机残留、微粒、金属离子杂质及加工附着物，避免表面划伤、颗粒再附着和交叉污染。配备自动十工位龙门架传输结构，整机尺寸为12M×2M×2.6M，总功率100KW，净重5000kg。采用高洁净防腐材料制造，并搭载精密循环过滤与恒温控制系统，运行稳定、洁净度高。广泛应用于硅片、碳化硅衬底、蓝宝石衬底等半导体材料的湿法精密清洗，满足刻蚀、镀膜、封装等前端半导体工艺的严格超高洁净要求。